【超声波清洗机http://www.bthcdz.com】两种清洗方式的比较溶剂清洗是比较传统的方法其优点是清洗速度快效率比较高溶剂本身可以不断蒸馏再生循环使用但缺点也比较明显由于光学玻璃的生产环境 要求恒温恒湿均为封闭车间溶剂的气味对于工作环境多少都会有些影响尤其是使用不封闭的半自动清洗设备时。 

    半水基清洗是近年来逐渐发展成熟的一种新工艺它是在传统溶剂清洗的基础上进行改进而得来的。它有效地避免了溶剂的一些弱点可以做到无毒气味轻微废液可排入 污水处理系统设备上的配套装置更少使用周期比溶剂要更长在运行成本上比溶剂更低。半水基清洗剂最为突出的一个优点就是对于研磨粉等无机污染物具有良好的清 洗效果极大地缓解了后续单元水基清洗剂的清洗压力延长了水基清洗剂的使用寿命减少了水基清洗剂的用量降低了运行成本。缺点就是清洗的速度比溶剂稍慢并且必 须要进行漂洗。

    1、研磨后的清洗研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量外观和精度的重要工序。研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青少数企业的加工过程中会有漆 片。其中研磨粉的型号各异一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。根据镜片的材质及研磨精度不同选择不同型号的研磨粉。在研磨过程中使用的沥青是起保护作用 的以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。研磨后的清洗设备大致分为两种一种主要使用有机溶剂清洗剂另一种主要使用半水基清洗剂。 

    2、镀膜前清洗镀膜前清洗的主要污染物是求芯油也称磨边油求芯也称定芯、取芯指为了得到规定的半径及芯精度而选用的工序、手印、灰尘等。由于镀膜工序对镜 片洁净度的要求极为严格因此清洗剂的选择是很重要的。在考虑某种清洗剂的清洗能力的同时还要考虑到他的腐蚀性等方面的问题。镀膜前的清洗一般也采用与研磨 后清洗相同的方式分为溶剂清洗和半水基清洗等方式。工艺流程及所用化学药剂类型如前所述。

    3、镀膜后清洗一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和组装前清洗其中接合前清洗接合是指将两片镜片用光敏胶粘接成规定的形状以满足无法一次加工成型的需求或制 造出较为特殊的曲率、透光率的一道工序要求最为严格。接合前要清洗的污染物主要是灰尘、手印等的混合物清洗难度不大但对于镜片表面洁净度有非常高的要求其 清洗方式与前面两个清洗工艺相同。超声波洗机机，苏州全自动超声波清洗设备。苏州超声波清洗机。